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弹性发射抛光

弹性发射抛光

弹性发射加工百度百科

弹性发射加工(elastic emission machining,EEM)采用浸液工作方式，利用在工件表面高速旋转的聚氨酯小球带动抛光液中粒度为几十纳米的磨料，以尽可能小的人射角冲击工件表面，通过磨粒弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在合适的抛光参数下可以使工件表面粗糙度弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库2021年1月22日本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因弹性发射光学制造技术研究进展2021年9月18日本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹李佳慧,侯溪,张云,王佳,钟显云弹性发射光学制造技术研究

超精密研磨抛光方法 bearing

2006年5月22日弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨方法。其加工原理如图1 所示(图1 略)。加工时使用聚氨脂球作加工头,在高速旋转的加工头与本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性弹性发射光学制造技术研究进展旭为光电本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展,归纳了弹性发射加工技术的原理,包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性,弹性发射加工装备,影响弹性发射加工技术表面粗糙 ScienceChina 中国科学文献服务系统2021年10月7日本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹弹性发射光学制造技术研究进展光学加工与制造光行天下

弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库

2021年10月8日弹性发射加工作为一种超精密抛光方法，优点是在合适的抛光参数下可以使工件表面粗糙度达到纳米级甚至亚纳米级。缺点一是抛光速率很慢，二是对所搭建的抛光装置的 2024年5月20日在这篇综述中，讨论了先进的抛光方法，例如化学机械抛光（CMP）、弹性发射加工（EEM）、离子束抛光（IBF）、磁流变抛光（MRF）、等离子辅助抛光（PAP）、超声原子级表面的先进抛光方法：综述 XMOL2021年2月22日弹性发射加工技术是一种去除函数稳定，超低亚表面缺陷，面向原子级的超光滑加工方法，可以作为加工上述精度要求光学元件的手段。本文总结了弹性发射加工技术的国弹性发射光学制造技术研究进展百度文库借鉴弹性发射加工的去除原理,本文提出了一种新的超光滑表面加工方法——纳米颗粒胶体射流抛光方法。纳米颗粒胶体射流抛光方法将界面化学、流体动力学理论与光学加工方法相结合,提供了一种可以实现原子级去处的加工方法。纳米颗粒胶体射流抛光机理及试验研究百度学术

弹性发射光学制造技术研究进展中国光学中国光学期刊网

2021年11月16日本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的2016年8月12日 21 基于机械作用的超精密研磨抛光方法基于机械作用的超精密研磨抛光方法是依靠微细磨粒的机械作用对被加工表面进行微量往除，达到高精度的加工表面。 211 弹性发射加工弹性发射加工是一种可以获得较高的加工精度和较低的表面粗糙度的超精密研磨超精密研磨抛光方法2007年9月24日通常高质量光滑表面的抛光是以沥青或纤维等弹性材料作磨盘，配以抛光液或研磨膏来达到技术要求。近年来，光学及微电子学极大地推动了光学加工技术的发展。大规模或超大规模集成电路对所用基片 (通常为硅、锗等材料)的表面精度提出了很浮法抛光技术—中国光学光电子行业网 COEMA2015年7月8日 Jeong[8]对弹性发射加工抛光区域的压力、速度进行分析ꎬ并对磨粒运动进行模拟仿真以此来揭示材料的去除机理ꎮKutbota等[9￣10]对弹性发射加工中磨粒的形态对材料去除率的影响进行研究ꎬ结果表明磨粒相对超光滑表面加工技术研究进展

第7章超精密研磨与抛光百度文库

弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进行加工。第二节精密研磨、抛光的主要工艺因素研磨方法 (单面、双面、旋转、往复)；研磨工具（研具）(材料、形状 2021年7月24日微小的磨粒微小的磨粒被抛光器弹性地夹持研磨工件。因而，磨粒对工件的作用力很小，即使抛光脆性非接触研磨技术是以弹性发射加工（EEM) 的理论为基础的。 EEM方法是利用微细粒子在材料表面上滑动时去除材料的加工。微细粒子以第5章超精密研磨与抛光PPT课件百度文库2021年12月30日本文充分调研了弹性发射加工技术及装备的国内外研究现状并展望了未来的可能发展方向。2 弹性发射加工技术材料去除机理弹性发射加工技术(Elastic Emission Machining，EEM)是由日本大阪大学的Mori等人在20世纪70年代提出的一种原子量级的超光滑抛光弹性发射光学制造技术研究进展2024年10月30日磁流变抛光技术研究进展孙洹（图书馆）引言现代科学技术的发展对应用于各种光学系统中的光学元件提出了越来越高的要求。通常情况下，要求最终生产的光学元件具有高的面形精度、好的表面质量及尽量减少亚表面破坏层。磁流变抛光技术研究进展西安工业大学图书馆 XATU

液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化

2019年6月2日 0 引言为解决机械抛光和化学机械抛光过程中磨粒与工件表面刚性接触，造成抛光表面产生细微划痕以及损伤层的难题，国内外学者提出了弹性发射抛光、浮法抛光、动压浮离抛光等非接触抛光加工方法，有效改善了传统抛本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展,归纳了弹性发射加工技术的原理,包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性,弹性发射加工装备,影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素,分析了弹性发射加工技术面临的问题,展望了ScienceChina 中国科学文献服务系统2023年6月25日弹性发射加工（EEM）是获得超光滑表面的最有效技术之一。抛光轮将抛光颗粒供给到工件表面的特定位置，与工件发生化学反应，实现材料的无损去除。然而，抛光轮与浆料之间的相互作用以及原子去除机制仍不清楚。在这项研究中，在三维状态下考虑抛光轮和浆料之间的相互动态相互作用，并建立弹性发射加工材料去除的滚动模型分析,International Journal of 用于弹性发射中抛光压力的控制装置及抛光压力确定方法 CN61, [3] 李梦凡, 胡小川, 赵远程, 侯溪一种光学元件表面缺陷高精度检测装置 CN59, [4] 赵远程, 胡小川, 李梦凡, 侯溪侯溪中国科学院大学UCAS

光学平面研磨抛光加工简介以直径485mm陶瓷盘为例知乎

2020年12月4日光学平面的超精密加工，一般需要经过粗研磨、精研磨、抛光，以不断提高加工件的面形精度，减小表面粗糙度。超精密研磨范围较广，主要包括机械研磨、弹性发射加工、浮动研磨等加工方法。弹性发射抛光工作原理抛光轮与工件表面形成小间隙，中间置抛光液，靠抛光轮高速回转造成微粉(磨粒) 磨料的“弹性发射”进行加工。抛光轮：由聚氨基甲酸（乙）酯制成，磨料直径 01 ～ 001μm 加压抛光轮悬浮液小间隙工件图弹性发射加工原理第7章超精密研磨与抛光百度文库2016年11月9日该实用新型采用抛光柱自转和工件自转的方式，适用于大口径超光滑光学元件弹性发射抛光，可消除抛光纹路，提高抛光效率、面形精度及降低表面粗糙度，减少表面损伤。 CNU 一种弹性发射抛光装置 Google Patents CNU 一种弹性发射抛光装置 Google Patents软质磨粒机械抛光（弹性发射加工）最小切除可以达到原子级，直至切去一层原子，而且被加工表面的晶格不致变形，能够获得极小表面粗糙度和材质极纯的表面。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。第7章精密研磨与抛光百度文库

基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究学位万方

弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式，但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈，本文为了突破这一问题，对双转弹性发射加工技术进行系统研究，主要研究内容包括： (1)根据装置所需性能，对双转弹性发射加工装置进行设计。2016年11月9日摘要：本实用新型提供一种弹性发射抛光装置,包括抛光柱自转单元和工件自转单元,抛光柱自转单元包括抛光柱、抛光柱自转驱动结构和抛光柱升降结构,抛光柱自转驱动结构包括自转轴、电机、同步轮、同步带、轴承、支撑臂；抛光柱升降结构包括横梁、导轨、导轨固定梁和气缸；工件自转单元一种弹性发射抛光装置百度学术2023年12月13日基于光学镜片的研磨抛光的精密需求，目前又发展出了新的加工技术，如数控研磨和抛光技术、应力盘抛光技术、超光滑表面加工技术、延展性磨削加工、弹性发射抛光法、激光抛光、震动抛光等等新技术，这些新的加工一文读懂光学镜片抛光工艺（建议收藏）知乎2024年9月29日原子级抛光是一种先进的表面加工方法，用于制造具有原子级表面粗糙度的部件。这些方法包括化学机械抛光、弹性发射加工、离子束抛光、磁流变抛光、等离子辅助抛光、超声波和光催化抛光、电化学抛光和气泡辅助抛光等。西南交通大学教师主页陈磊中文主页原子级抛光

弹性发射光学制造技术研究进展

2021年1月22日本文总结了弹性发射加工技术的国内外研究现状及最新进展，归纳了弹性发射加工技术的原理，包含流体特性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的摘要：弹性发射加工是基于流体动力润滑效应获取超光滑表面的一种重要方式,但是目前该方法在进一步改善粗糙度上遇到瓶颈,本文为了突破这一问题,对双转弹性发射加工技术进行系统研究,主要研究内容包括: (1)根据装置所需性能,对双转弹性发射加工装置进行设计从设计指标,性能参数,关键基于流体动力润滑效应的双转弹性发射加工技术研究百度学术1弹性发射加工 2浮动抛光 3 动压浮离抛光 3砂轮结合剂砂轮结合剂有树脂类、金属类、陶瓷类等，以树脂类应用为广。对粗粒度砂轮，可用陶瓷结合剂。金属类、陶瓷类结合剂是目前超精密加工领域中研究的重要方面 1第三章精密与超精密磨料加工百度文库2007年1月19日目前，纳米级光滑表面的抛光加工方法有很多，如传统的机械干式抛光和湿式抛光、弹性发射抛光、动压浮离抛光、电场和磁场抛光、磁流变抛光(MRF)、湿式化学机械抛光、干式化学抛光、固着磨料抛光等。我国突破纳米抛光新工艺中国科学院

原子级表面的先进抛光方法：综述 XMOL

2024年5月20日在这篇综述中，讨论了先进的抛光方法，例如化学机械抛光（CMP）、弹性发射加工（EEM）、离子束抛光（IBF）、磁流变抛光（MRF）、等离子辅助抛光（PAP）、超声波和光催化抛光、电化学抛光、气泡辅助抛光。2021年2月22日性、抛光颗粒运动特性和化学特性，弹性发射加工装备，影响弹性发射加工技术表面粗糙度提升和材料去除效率的因素，分析了弹性发射加工技术面临的问题，展望了未来的发展方向，期百度文库为弹性发射加工技术进一步发展和应用提供一定的参考。弹性发射光学制造技术研究进展百度文库摘要：深紫外光刻,极紫外光刻和先进光源等现代光学工程需求牵引先进光学制造技术持续发展,要求超光滑光学元件表面粗糙度达到原子级水平以及表面全频段面形误差达到RMS(Root Mean Square)亚纳米量级甚至几十皮米,推动超光滑光学元件制造要求不断逼近物理极限目前,对于如何实现上述超高精度要求弹性发射光学制造技术研究进展百度学术2018年7月6日光、弹性发射抛光、水面滑行抛光等众多抛光方法[14￣17]ꎮ在当前的低弹性模量试样的原子级超光滑表面的平面抛光方法中ꎬ浴法、浮法与弹性发射抛光更具代表性ꎮ通过上述流体抛光的研究理论、技术方法线性液动压抛光装置设计及其动压力分布研究∗

张云中国科学院大学UCAS

（ 2 ）一种改进的评价CCOS抛光去除函数误差抑制能力的方法, 2019, 第 5 作者, 专利号: CNA （2）弹性发射光学制造技术研究进展, Research progress of elastic emission machining in optical manufacturing, 中国光学, 2019年5月7日第30卷第6期中国机械工程Vol．30 No．62019年3月CHINA MECHANICAL ENGINEERING pp．638－643液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化郑子军李攀星蔡东海文东辉浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术教育部／浙江省重点实验室，杭州，摘要：为对液动压悬浮抛光工具盘结构参数进行优化液动压悬浮抛光流场的数值模拟及抛光工具盘结构优化郑子军2021年10月8日弹性发射数控抛光系统设计及搭建在静止状态下受力如图4左图所示，可得到： (2)在抛光过程中受力状态如图4右图所示，由于压电陶瓷伸长范围小于100μm，远小于L1、L2、L3的长度，故可认为FS、F0、F1到A点力臂距离始终分别为L3、 L2、L1 弹性发射数控抛光系统设计及搭建百度文库弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究来自掌桥科研喜欢 0 阅读量： 189 作者：徐兴芹展开摘要通过Fluent软件计算抛光区微观流场,分析了磨粒在流场中的受力状态,建立了单磨粒在流场中的运动方程,分别利用Fluent软件和Fortran软件对单磨粒的运动弹性发射加工中磨粒群运动特性的研究百度学术

等离子体光学加工关键技术研究现状

2022年5月11日新，磁流变抛光、气囊加工、弹性发射加工、等离子体加工等先进光学制造技术应运而生。等离子体加工技术作为一种非接触式的化学加工方法，是多学科交叉出现的新型光学加工技术，与应力盘、小磨头等传统加工技术相比：等离2022年10月31日任务 32 基于弹性发射抛光技术的单晶硅超光滑表面抛光工艺控制目标：在已有的流体动压弹性发射抛光装备上，配置专用的抛光液体系，揭示抛光间隙、转动速度、抛光液成分对单晶硅弹性发射抛光效率及表面质量的影响规律，初步获取单晶硅超光滑表面抛光工艺。新工科毕业设计项目指导教师及学生申报通知（原子及近原子 2023年3月27日软质磨粒机械抛光 (弹性发射加工)。加工原理实质是磨粒原子的扩散作用和加速的微小粒子弹性射击的机械作用的综合效果。 6 化学机械抛光。化学机械抛光是一种利用研磨液的腐蚀作用和磨粒的机械作用双重作用的研磨方法。超精密抛光技术上海脉诺金属表面处理技术有限公司2019年6月17日技术，其中，弹性发射加工、磁流变抛光和化学机械抛光等得到了良好的应用。这些抛光方法中弹性发射加工[3]可以获得超光滑无损表面，但材料去除量为原子级，效率极低；磁流变抛光[4]适用于各种复杂曲面的抛光，但磁流变液价格昂贵，成本高内循环式非牛顿流体抛光单晶硅的仿真与试验研究